MD30-30加熱制冷浴槽(-30℃~90℃),容積30L,控溫范圍-30℃~90℃,用于石油化工、制藥及半導體工業等領域低溫測量與檢定,樣品保存等浸入式實驗或外循環應用
加熱制冷浴槽(-30℃~90℃),MD30-100可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥、半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式實驗或外循環應用。
MD80-8超低溫加熱制冷器(-80℃~90℃),應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環應用,可以提供熱冷受控,溫度均勻恒定的液體環境,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到±0.1℃
MD5-12低溫恒溫循環槽(-5℃~90℃)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.05℃。
MD40-30-加熱制冷循環器(-40℃~90℃)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.05℃。
MD60-8-超低溫恒溫槽(-60℃~90℃)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.1℃。
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